一、概念

      洁净室工程对控制硅芯片等产品接触的大气清洁度、温度和湿度至关重要，使产品能够在称为洁净室的良好环境空间中生产和制造。按照国际惯例，无尘净化水平主要是根据每立方米空气中颗粒直径大于分割标准的颗粒数来确定的。100%的无尘意味着完全没有灰尘，而是以非常微量的单位控制。当然，在这个标准中，符合灰尘标准的粒子比我们常见的灰尘已经很细微，但光学结构中的一些灰尘也会产生非常负面的影响，因此光学制作产品生产中没有灰尘是必不可少的要求。

      每立方米小于0 . 3微米粒子大小的灰尘数量控制在3500个以下，达到国际无尘标准a级。目前适用于芯片级生产加工的无尘标准对灰尘的要求高于a级，这些高标准主要适用于某些更高的芯片生产。微尘的数量严格控制在每立方米1000个以内。这在业界一般被称为1k水平。

      二、洁净室工程的用途主要有以下三种:

      空气净化室:已经建好并可以运行的净化室(设施)。具备所有相关的服务和功能。但是设施内没有操作员操作的设备。

      静态洁净室:功能齐全，安装正确，可根据设置使用或使用的洁净室(设施)，但设施中没有操作员。

      动态清洁室:位于正常使用的清洁室中，可提供完整的维修功能、设备和人员，以及在需要时执行正常工作。